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石英片磁控溅射镀膜的特点 [复制链接]

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一、优点

1、靶材粒子能量高(比热蒸发高出1个数量级),所制备膜层更致密,与石英片结合力更高/p>

2、一般备有辅助离子源,可以用来清洗石英片,清洗效果好;3、易于制备熔点高的材料;

4、制备合金膜层,可以保证膜层材料比例与靶材相同;5、由于装有中和器,也可以用来制备绝缘膜层.

二、缺点

1、一般镀膜速率较慢,每秒几十埃;

2、离子源清理和中和器灯丝更换较频繁;

3、不适宜制备较大面积薄膜.

三、使用靶材时的注意事项

1、靶材的外形尺寸要与机器要求的设计一致;

2、靶材外表与内在清洁度要高,是在洁净室内加工制成的;3、靶材的质量可据合同要求定制(高纯度99.99%、高密度、低气体含量,尺寸(银靶材约××7mm,重量1.66Kg),无裂纹,无孔洞);4、靶材的致密度要一致(可在显微镜下观察到);5、靶材在使用中要记录下该工序的各种数据,以便观察其变化及差距;6、使用银靶WH,铬靶WH时需更换新靶材;7、靶材的更换要严格按设备中的操作工艺执行;8、靶材使用后称重量(银靶材约1.25~1.3Kg)返回原供货商,加工后再使用,往返循环.

四、机器运行时的注意事项

1、保持机器内舱各部位的清洁;

2、

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